深圳恒歌 DF 系列氣體擴(kuò)散器過(guò)濾器，是專為半導(dǎo)體制程中真空腔體快速放氣應(yīng)用打造的核心裝備。這款產(chǎn)品創(chuàng)新性融合了擴(kuò)散器的優(yōu)化氣流特性與高效過(guò)濾器的精密攔截能力，通過(guò)獨(dú)特的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，在實(shí)現(xiàn) 0.003μm 超高過(guò)濾精度的同時(shí)，徹底規(guī)避排氣過(guò)程中的湍流干擾，為光刻、蝕刻等核心制程的真空腔體環(huán)境提供全方位保護(hù)，堪稱半導(dǎo)體制造中的 “潔凈衛(wèi)士”。

產(chǎn)品特點(diǎn)

● 納米級(jí)精準(zhǔn)過(guò)濾：采用不銹鋼粉末燒結(jié)介質(zhì)，過(guò)濾精度達(dá) 0.003μm，有效攔截超細(xì)微顆粒，防止工藝污染。

● 湍流控制設(shè)計(jì)：全 316L 不銹鋼結(jié)構(gòu)優(yōu)化氣流路徑，避免排氣時(shí)產(chǎn)生湍流，防止顆粒揚(yáng)起或硅片移位。

● 全材質(zhì)防腐耐用：整體 316L 不銹鋼打造，耐高溫、耐高壓且耐腐蝕，適配各類嚴(yán)苛工藝氣體環(huán)境。

● 潔凈級(jí)生產(chǎn)保障：從制造、測(cè)試到包裝全程在潔凈室完成，通過(guò) 100% 完整性與氦氣泄漏檢測(cè)。

● 靈活定制適配：可根據(jù)安裝空間個(gè)性化設(shè)計(jì)，完美適配不同腔體布局與氣路系統(tǒng)。

應(yīng)用場(chǎng)景

作為關(guān)鍵的工藝保護(hù)組件，廣泛應(yīng)用于微電子半導(dǎo)體晶圓制程中各類真空腔體的快速放氣環(huán)節(jié)：在光刻工藝腔室中，保障排氣時(shí)硅片表面不受顆粒污染;在蝕刻設(shè)備中，防止湍流干擾工藝氣體分布;在薄膜沉積系統(tǒng)中，通過(guò)超純過(guò)濾提升薄膜均勻性。尤其適配需要頻繁進(jìn)行真空破真空操作的生產(chǎn)設(shè)備，為 12 英寸及更大尺寸晶圓制造提供穩(wěn)定的潔凈環(huán)境支持。